Tibco News、6 月 30 日、オランダ政府は半導体装置の輸出管理に関する最新の規制を発表しましたが、一部のメディアは、これを中国に対するフォトリソグラフィーの管理が再びすべての DUV に拡大したものと解釈しました。実際、これらの新しい輸出管理規制は、最先端の ALD 原子堆積装置、エピタキシャル成長装置、プラズマ堆積装置、液浸リソグラフィー システムなどの高度な 45nm 以下のチップ製造技術、および使用される技術、ソフトウェアを対象としています。そのような先進的な機器を使用および開発すること。
ASMLはTibcoへの声明の中で、オランダ政府の新たな輸出管理規制はTWINSCAN NXT:2000iやその後の液浸リソグラフィーシステムを含む最新のDUVモデルの一部のみを対象としていると強調した。EUV リソグラフィーは以前から制限されており、他のシステムの出荷はオランダ政府によって管理されていません。ASML 公式ウェブサイトの情報によると、DUV 液浸リソグラフィー システムには、TWINSCAN NXT:2050i、NXT:2050i、NXT:1980Di の 3 つのリソグラフィー マシンが含まれており、これらは 38nm ～ 45nm プロセスのウェーハ処理を実行できます。
また、TWINSCAN XT:400L、XT:1460K、NXT:870など、65nm～220nmプロセスなど45nmを超えるウェーハ処理が可能な乾式DUVリソグラフィー装置はオランダの制裁リストには含まれていない。
Tibco が翻訳したオランダの管理リストは次のとおりです。
オランダ外国貿易開発協力大臣発行の規則 MinBuza.2023.15246-27 は、規則 No. 2021/821 (先端半導体関連) の附属書 I にこれまで言及されていない半導体用先端製造装置の輸出に関するライセンス要件を規定しています。製造装置）
第 2 条: この規則は、大臣の許可なしに先進的な半導体製造装置をオランダから輸出することを禁止します。
第3条：
1. 第 2 条の許可申請は輸出者が行い、検察官に提出するものとする。
2. いずれの場合も、申請書には以下を含めるものとします。
a）輸出者の名前と住所。
b）先端半導体製造装置の受領者およびエンドユーザーの氏名および住所。
c）先端半導体製造装置の受領者およびエンドユーザーの氏名および住所。
3、いかなる場合でも、検察官は輸出者に対し、輸出に関する契約書および最終用途に関する声明の提出を要求する権利を有します。
第4条：
第 2 条に記載されているライセンスには、条件および条項が適用される場合があります。
第 2 条に記載されているライセンスの付与には資格が必要です。
第 5 条:
第 2 条に記載されているライセンスは、以下の場合に取り消されることがあります。
a) ライセンスが不正確または不完全な情報に基づいて発行された場合。
b) ライセンスの条項、条件、制限が遵守されなかった。
c) 国の外交および安全保障政策のため。
投稿日時: 2023 年 7 月 2 日